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第879章 香江，不一样的2007年（第1页）

正当2007年的1月，国内正在如火如荼的进行2008年奥林匹克运动会的宣传攻势的时候，国外，在科技界讨论最多的，却是一种新的光刻机技术。

在整个世界的光刻机技术持续几年的研发竞争后，终于也有了眉目。

2004年，hKSmL研发出首台浸润式微影机，与此同时，日本尼康也成功推出了干式微影技术的157nm产品。然而，hKSmL的浸润式微影机以其更低的应用成本和更优的光波缩短性能，赢得了大多数半导体厂商的青睐，从而逐渐占据了市场主导地位，日本光刻机开始逐渐被边缘化。

直至2007年之前，日本尼康和佳能一直主导着全球光刻机市场，毕竟光刻机被誉为“现代光学工业之花”，而日本的光学工业实力雄厚。

进入2007年以后，全球半导体产业都已经明白，日本的光刻机技术的领先，已经成为历史了。

1月15日，硅谷地区最大的报纸，也是北美的第五大报纸，《今日硅谷》（Silicon Valley today），率先对全球光刻机市场的变化进行了详细的报道：

“当全行业都在烧钱追157纳米干式光刻技术时，季的香江麒麟研究院，提出了‘浸润式光刻’的概念，在镜头和晶圆之间加入一层水，把光波折射成更短的波长。

这个想法，除了他们自己之外，当时只有荷兰的ASmL相信，尼康不信，结果ASmL与hKSmL共同成为光刻机技术的霸主，尼康和佳能都被甩在了后面。

从浸润式光刻法的诞生，可以看出这位季，以及这种光刻法研发团队的负责人 ，那位伯恩林，他们一直坚持自己的判断，强调工程实践远比理论讨论重要。

这场光刻机技术的颠覆性的变革，也让我们再次想起了那位季之前在医学领域中的胃肠病治疗，和照明工业的蓝光led等领域中的那种无与伦比的创造性思维，以及勇于实践的精神。

目前，在全球芯片产业的euv光刻机的研发上，ASmL与hKSmL已经走在了最前面。”

当季宇宁看到这个报道的时候，他知道这家报纸幕后的金主是谁，就是那个最早从印“钞票”开始起家的那个家族。他知道自己的这项技术，已经开始被某些人所关注了。

其实，ASmL与hKSmL目前都没有造出商用的euv光刻机的原型机。

一台EUV光刻机，需要世界各发达国家十几万个超精密零部件迭代组装而成，可以说是人类有史以来最精密的设备了。

前世阿斯麦攒出euv的原型机是在2010年以后了。正式商用，是又过了10年。

此时香江的红控斯麦，通过专利交叉许可，获得的精密零部件以及专利技术，远不如阿斯麦目前的专利和技术积累以及其他便利条件。

……

1月16日，第64届北美电影金球奖落下帷幕。