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第728章 只有材料的进度最迅速……（第1页）

哪怕是拥有诸多支持，拥有大量的资源，研制光刻机依旧是困难重重。

他指着光学系统，说道：“DUV光刻机需要由15-20个直径200-300mm的透镜组成的透镜组；

EUV光刻机则需要由20多块“锅底大”的镜片串联组成的反射系统。

镜面表面起伏要求极其严苛，如30cm长的镜子起伏不超过0.3nm！”

“这一项技术，目前在国内，还没有能实现。”

“更别说对光学元件进行原子级精度的抛光和高精度镀膜……”

郭汝京一想到这些完全没有储备的技术，就觉得头脑发热。

单一研制光刻机的国家，基本不存在。

而现在，紫晶工厂要做的，就是突破这全球的限制，完全依赖国内的厂家，或者自身研制，造出一台光刻机来！

“0.3nm的起伏……这，郑稳都摸不出来吧？”蒋新松有些咋舌。

“嗯，我已经联系了国内几家光学顶尖的实验室，咨询了一番，但暂时还是没有消息。”郭汝京指着上面任务里的备注，写着正在求助，待攻克。

蒋新松理了理头绪，然后看向运动模块，问道，“工件台与掩模台的进度，怎样了？”

“精密运动与定位系统啊……”郭汝京又点开另一个模块，面露难色的说道：“情况也不太妙啊！”

他一一点开里面的详细任务，这个蒋新松倒是不需要他的解释，就完全能看懂。

制造能够在高速运动下（如扫描曝光）实现亚纳米级定位精度的双工件台系统。

其定位精度需小于10nm，甚至要达到3nm以内的套刻精度要求。

研发应用激光干涉仪、光栅尺等超精密测量传感器，以及直线电机、压电陶瓷等驱动器，实现对晶圆和掩模版的实时位置反馈与控制 。

这些都是超精密的器件。

如果只是一般的光栅尺，或许万八千就能买到，但是要放在光刻机上，显然不够。

蒋新松看着下面一堆红色的待开展任务，也不禁皱起眉头，“这需要更高性能的点击，才能实现运动的精度。”